半导体材料

化腐片

化腐片简介

酸腐片以其较低的粗糙度,较好的光泽度,相对较低的成本,在一些领域逐渐开始直接使用酸腐片替代成本相对高抛光片或外延片制备电子器件,以降低成本。产品品种有低粗糙度酸腐片,低反射率酸腐片、高反射率酸腐片等。

主要应用于二/三极管、晶闸管、TVS产品、IGBT、高效太阳能电池片等。

 

化腐片的主要规格

FZ化腐片规格

FZ etching wafers Specifications

品种

导电

类型

晶向

直径范围(mm)

电阻率范围(Ω.cm )

几何参数、颗粒度

及表面金属

本征及超高阻区熔硅抛光片(FZ)

N&P

<100>&<111>

76.2-200

>1000

T180(μ m)

TTV2(μ m)

TIR2(μ m)

反射率最高可达90%

中子辐照区熔硅抛光片(NTDFZ

N

<100>&<111>

76.2-200

30-800

直拉区熔硅抛光片(CFZ

N&P

<100>&<111>

76.2-200

1-50

气相掺杂区熔硅抛光片(GDFZ

N&P

<100>&<111>

76.2-200

0.001-300

 

CZ化腐片规格

CZ etching wafers Specifications

品种

导电

类型

晶向

直径范围(mm)

电阻率范围(Ω.cm)

几何参数、颗粒度

及表面金属

磁场直拉硅抛光片(MCZ

N&P

<100>

<110>&<111>

76.2-200

1-300

T180(μ m)

TTV2(μ m)

TIR2(μ m)

反射率最高可达90%

直拉硅单晶抛光片(CZ

N&P

<100>

<110>&<111>

76.2-200

1-300

磁场直拉重掺硅抛光片

N&P

<100>&<111>

76.2-200

0.001-1

 

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